在，纪弘告诉他，做真正的5nm！
海思的设计能力现在已经无人怀疑，甚至在很多人眼里，它已经是世界最强，没有之一——能在落后制程工艺下设计出现在的麒麟，哪怕是苹果也不容易做到
如果工艺再能提上去，那……
光想想，于东都觉得是美的
……
“先参观一下吧”纪弘看出于东的惊讶，话已经点到，解释什么都是多余的，摆事实在任何时候都会好过讲道理
俩人换好衣服鞋子手套头套，来到产线
“杨工，介绍一下现在的情况吧”纪弘引这于东站在产线正在工作的光刻机屏幕之前，喊来总工程师，如此说道
“无限套刻测试一直在循环进行，目前，极端线宽已经做到了22nm……”
于东听到22nm的时候，内心还一笑，这也不高嘛
但是随即反应过来，当即惊呼道：“多少？”
这他么是220nm的光刻机啊，搞我玩儿呢吧，而且这玩意儿用的是i线365nm的光源啊！
华为利用SAQP技术实现4倍精度的光刻，这其中有多困难，只有做过才知道
而且良率从几乎没法看到现在的渐渐提高，也经历了非常漫长的时间——说白了，这玩意是实在没办法了才去搞的
如果国内有EUV，何至于费这么大的劲！
“10倍精度！22nm！”杨工程师确认道
“你们用的什么方法？”于东没有怀疑杨工骗他，这东西就在这儿，骗他没有任何意义，纪弘想跟他谈什么，也不差这一点筹码
“最简单的方法”杨工程师也是认真的回复道：“就是把需要光刻的图分到多个掩膜版上，然后一遍一遍的重复光刻-刻蚀-光刻-刻蚀……就这样”
“这……”这种方法于东当然知道，就是最原始的方法
但是精度怎么控制啊？这东西在所有的工艺节点上，量产工艺，就没有做过双重以上的，最多就是双重
理论倒是非常简单，但做起来那是非常的困难
不仅是工件台的移动精度问题，有非常多的问题需要解决
稍微对不准一点，一重一重的累积下来就会是天文数字，最终导致全盘都失败
换句话说，你动一下都需要保持nm级别的精度，既然有这个技术，直接去改造光刻机都比这个更容易
“来，看看我们的历程吧”没等杨工回答，纪弘引着于东来看这几天产线在做什么
“与传统提升工艺的过程不同，”纪弘介绍道：“类思维AI在这里发挥了巨大的作用
“刻-刻蚀-光刻-刻蚀，也就是LELE这种双重曝光技术之所以引起套刻误差，不能四重甚至更多重的LELELELLE，是因为精度不好把握
“但，对于我们来说，这反倒是最简单的对准嘛，机械重复就好了，一次不行那就多来几次”
这个过程困