是之一，那是因为荷兰ASML也拥有同级别的光刻机
但是这两款光刻机镜片技术上有巨大的差异，海湾科技在EUV光刻机上采用的是双面反射透镜，其特征就是大幅度减少极紫外光的吸收，大幅度增加了极紫外光能量利用率，进而大幅度减少功耗，而且也降低了对光源的功率技术要求
因为物理极限以及目前的材料学水平，极紫外光每次被镜片反射的时候，都会被吸收大约百分之三十左右的能量，因此反射镜用的越少，极紫外光的能量利用率就越高
海湾科技用的双面反射镜系统，对比荷兰ASML的六面反射镜系统，物镜系统工程难度更低，光源系统技术难度更低，制造成本也低一些，维护也更容易，然后还有个最明显的特征，那就是耗电量更低，大概只有百分之十左右
当然，对于对于先进工艺的芯片生产成本而言，电费成本占比不高
先进工艺芯片的成本，其大头是半导体工厂的巨大投资成本的折旧成本，一座五纳米半导体工厂动不动上百亿美元的投资，而这些成本都需要在短短几年里进行折旧的，平摊到每一年的折旧成本就非常夸张了
然后是大量的半导体耗材成本，如硅晶圆，光刻胶，特殊气体等原料也不便宜
再过来则是电费成本，半导体工厂的耗电量很大的，各种设备都是电老虎，因此电费成本也不算低，智云微电子集团光是每年交电费都是个非常庞大的数字
最后才是人工成本，这个比例很低……半导体的先进工艺里谈论人力成本其实没有什么实际意义的，因为占比太低了
因为半导体工厂耗电量比较高，而耗电大头就是EUV光刻机，因此能够降低EUV的耗电量也是比较重要的……这一点上海湾科技的EUV光刻机拥有比较大的能耗优势
只是这点优势放在整个先进工艺的生产成本里，其实也不算什么太大的优势就是了……因为电费成本并不是先进工艺的主要成本，占比也很低的
海湾科技的EUV光刻机和ASML的EUV光刻机，看似性能差不多，原理也一样，但是具体技术路线其实有着比较大的差异
而且荷兰ASML的同级别光刻机是属于欧洲日韩等西方工业体系的综合产物，ASML负责整体设计以及组装，各大子系统分别有来自美国的光源系统以及对准以及控制系统，来自德国的物镜系统，然后还有ASML自己研发的工作台以及定位系统，日本提供的掩模台系统……还有其他诸多零部件也来自多个国家
中间缺了任何一个国家的子系统，荷兰的ASML都无法组装出来EUV光刻机
而海湾科技的HEUV-300系列光刻机，则是纯国产供应链……并且还是由仙女山控股自己研究各
点击读下一页,继续阅读 雨天下雨 作品《重生08：从山寨机开始崛起》第六百三十五章 让全球人震惊的顶级半导体