智云微电子前期的等效三纳米工艺的生产，只能依靠HEUV-300C光刻机了
而压榨现有光刻机的物理极限，制造更先进的芯片，这也是智云微电子非常擅长的领域
在DUV浸润式光刻机时代里，智云微电子就曾经使用HDUV-600系列光刻机，通过四重曝光技术生产等效七纳米工艺……甚至当时一度还尝试过用这个光刻机玩八重曝光，搞等效五纳米工艺呢，这是个无比疯狂的技术
不过没多久EUV光刻机就已经量产并投入使用，因此这个疯狂计划被放弃了
但是这也导致了，智云微电子在多重曝光领域里的技术积累非常深厚
现在，智云微电子也在EUV光刻机上继续玩多重曝光技术，并且准备用性能稍微不足的HEUV-300C光刻机来强行达到大规模量产等效三纳米工艺
在第三十二厂里，徐申学也在实验室里看到HEUV-300C光刻机通过双重曝光，生产等效三纳米工艺芯片的过程，并且最终还看到了实验芯片成品
丁成军道：“实际上，目前我们已经能够使用HEUV-300C光刻机以及搭配的其他顶级设备制造出来等效三纳米工艺的芯片，但是目前的技术水平下，良率太低了”
“目前我们的等效三纳米工艺的良率只有百分之四十，使用这个良率生产芯片的话，其芯片成本比较高，从商业角度来说得不偿失”
“我们的目标是在未来半年内，把良率提升到百分之六十的水平，并且争取在明年四月份之前，把良率提升到百分之七十五的水平，这样就能够在明年代工生产S1303芯片以及APO7000的GPU核心的时候，把制造成本控制在一个可以接受的水平！”
“如果是未来性能更强悍的HEUV-300D也投入使用的话，那么等效三纳米工艺的良率就能够提升到百分之八十五以上，多积累几年技术，未来把良率提升到百分之九十也是有可能的！”
徐申学道：“良率还是很重要的，我们不仅仅要最先进的芯片，而且是需要大量最先进工艺的芯片，并且量产成本就必须考虑到，要不然的话，制造出来成本过高的芯片也难以进行推广使用！”
“良率太低，成本太贵的话，那么以后可能就只有APO系列显卡才能用得起了！”
APO系列显卡是出了名的超高毛利率，综合毛利能够达到百分之八十五以上，部分型号甚至能够达到百分之九十，其超高的毛利率是能够支撑更高的零配件成本的
哪怕是三纳米工艺的GPU核心成本翻倍，其实也不过过几千块成本而已……而这对于售价三四十万的APO先进显卡而言，并不算什么
但是对于手机SOC芯片，电脑CPU芯片这些毛利率没那
点击读下一页,继续阅读 雨天下雨 作品《重生08：从山寨机开始崛起》第六百三十五章 让全球人震惊的顶级半导体