魏，你这边先稳住基本盘，尽量将40nm\45nm制程工艺优化到极致，此节点的IC各项性能大概可以做到什么程度？”
萧白平息了一下心中的怒火，继续问道
“如果不考虑双重曝光技术，我们应用独有的特色工艺，利用现成的设备，可以将IC的性能做到无限接近于30nm的水平”
魏建军考虑了一下，也只有这么做才能稳住基本盘，不至于在28nm这个节点，被竞争对手落下太多
当然，也可以运用双重曝光技术，做到28nm的水平但在新一代光刻机没有彻底断供的情况下，生产成本实际上有些不合算
真要是到了高端光刻设备彻底断供的那一天，那就是另外一回事了
“那就先这样，这一年的时间，你们积极开发N+1、N+2世代的制程工艺，并应用于量产一年后，咱们再大量做28nm芯片”
萧白整理好心情，和魏建军继续探讨应对之策
“也只好这样了！萧董，回头你还是要催一催范董那边，他那边的进度落后的有点多”
魏建军其实也知道，有些事催也没用
但他就是心急，就是觉得很憋屈
“嗯，这件事你放心，回头我会亲自去一趟魔都那就先这样吧，你不要灰心，所有的难关都会度过去的”
萧白随即挂了电话，坐在椅子上久久不语
一周后
萧白和周思毅一起去了一趟魔都
这一次的魔都之行，主要就是为了浦东微电子设备最新一代光刻机项目
项目的进展其实还算顺利，大部分的技术障碍都已经越过按照范东林的说法，新一代光刻机大约在半年之内可以研发成功，一年内可以实现量产
而公司的最新一代光刻机才做到40nm\45nm节点，而阿斯麦的28nm光光刻机早就实现量产，据说14nm光刻机都接近研发成功
差距不是一般的大
“萧董，我们真的已经尽力了！不过，阿斯麦联合英特、S星、台电等企业，已经在EUV光刻机研发上投入了巨资，估计再过两年，人家能生产7nm芯片及以下的EUV光刻机都要问世了”
萧白到魔都的第二天，范东林请他和周思毅一起出来吃饭
或许是多喝了几杯酒的缘故，范东林不经意间表露出来的悲观情绪，让萧白皱起了眉头
“范董，你也不用妄自菲薄阿斯麦能有今天，其实是集合了欧美所有的尖端技术，并得到了包括英特尔、S星、台电等所有世界巨头的资金、市场的支持
而咱们呢？完全是靠着一点一滴的摸索在前行，人家对于咱们的技术封锁从没断过到如今，公司还不是一样制造出来了65nm光刻机，同时即将攻克40nm\45nm技术难关？”
半导体技术发端于美国，老美也一直占据着产业链的高端
浦东微电子
点击读下一页,继续阅读 华山弃徒. 作品《资本江湖的最后一个大佬》第728章 山雨欲来，国产化替代之路