节点为14纳米……这一代工艺开始，智云微电子开始采用EUV光刻机制造内存芯片的部分核心工序
而第四代的10D工艺，实际工艺节点为12纳米……
这个10D工艺的技术水平是非常高的，属于目前世界上技术最先进的内存芯片工艺，没有之一，哪怕是四星半导体想要追上来都困难的很
而且这种工艺对先进设备的要求也非常高，10D的很多工序里，已经需要大规模使用最先进的HEUV-300C光刻机了
之前的10C工艺节点里，可用不着这种顶级家伙，用的还是HEUV-300B光刻机，并且也只是在少量的核心工序里使用
而10D工艺，则是需要更先进的HEUV-300C光刻机，并且应用工序更多……这意味着性能更优秀，但是制造成本也更高
主要是HEUV-300C光刻机贵……这种光刻机是目前海湾科技旗下，也是全球范围内性能最顶级的量产型号光刻机，其1.5纳米的套刻精度能够轻松用于制造等效五纳米/七纳米工艺的芯片……这款光刻机，乃是智云微电子里现在以及未来用于大规模制造EUV单次曝光工艺的主力光刻机
至于更老旧的HEUV-300B，虽然光刻性能达标，但是生产效率不太行，每小时产能只有一百二十片，现在都已经停产了……有了更先进的HEUV-300C，海湾科技都不愿意继续生产HEUV-300B了
这也和海湾科技自己的策略有关，因为EUV的镜片组产能有限，一年在只能生产这么点EUV光刻机的情况下，他们更倾向于客户采购最先进，价格更高，利润更高的产品
而不是用宝贵的EUV镜片组产能，去生产成熟便宜，利润也比较低的产品
所以，海湾科技把HEUV-300B光刻机的价格标的比较高，简单直白的告诉客户：别买这玩意了，来买HEUV-300C啊！
最后客户一算，HEUV-300C虽然贵很多，但是综合使用成本性价比还要更好，所以也不抗拒
别说智云微电子了，现在中芯采购EUV光刻机，都是采购HEUV-300C型了，只是他们没啥钱，买的很少
现在的HEUV-300C光刻机还是相当不错的，都能够用来勉强生产等效三纳米工艺的芯片了……智云微电子的第一代三纳米工艺，就是用这款光刻机做的
当然，只是初步满足等效三纳米工艺的需求，良率以及成本上还是有所不足
如果要更好，更快，更低成本的制造等效三纳米乃至二钠米等一系列EUV双重曝光工艺的芯片，那么就需要更新型，目前海湾科技那边刚完成原型机研制，还没有开始供货的HEUV-300D！
这是一款套刻精
点击读下一页,继续阅读 雨天下雨 作品《重生08：从山寨机开始崛起》第六百一十三章 四大巨头的价格战